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  • 产品描述: ????? CP-PVD系列磁控溅射镀膜设备采用先进的in-line产线结构,Twin-Mag孪生阴极磁控溅射技术,并配以全自动控制系统、先进的真空系统,可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜,并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构,适合大规模光学、电学薄膜的生产,做到一机多用,填补了国内空白。????? CP-PVD系列磁控溅射镀...
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